[发明专利]一种光刻掩膜形状预测方法及装置、电子设备有效
| 申请号： | 202211592524.5 | 申请日： | 2022-12-13 |
| 公开（公告）号： | CN115598937B | 公开（公告）日： | 2023-04-07 |
| 发明（设计）人： | 请求不公布姓名 | 申请（专利权）人： | 华芯程（杭州）科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G06N3/049;G06N3/08 |
| 代理公司： | 上海盈盛知识产权代理事务所(普通合伙) 31294 | 代理人： | 赵娟娟 |
| 地址： | 311113 浙江省杭州市余杭*** | 国省代码： | 浙江;33 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种光刻掩膜形状预测方法及装置、电子设备。本发明提供的光刻掩膜形状预测方法，利用一种基于类脑计算下的脉冲神经网络结合自适应优化进行光刻掩膜形状预测；从光刻系统产生的光源，通过投影式曝光将光源照射到会聚透镜上，进而使其曝光显影在掩膜上，再透过掩膜投影到晶圆上；通过在光束到达晶圆前预测其光刻掩膜形状，可以在版图设计阶段对芯片设计图形优先做相应的调整优化以及对初始照射光源进行调整优化，使得最终照射到晶圆的光满足光刻需求。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光刻 形状 预测 方法 装置 电子设备 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于华芯程（杭州）科技有限公司，未经华芯程（杭州）科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202211592524.5/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：速率匹配方法及装置、信道交织方法及装置
- 下一篇：一种抽屉式配电柜
