[发明专利]基于双抑制效应的飞秒激光直写光刻胶组合物及其应用有效
| 申请号： | 202211599240.9 | 申请日： | 2022-12-12 |
| 公开（公告）号： | CN115793395B | 公开（公告）日： | 2023-10-20 |
| 发明（设计）人： | 关玲玲;匡翠方;邱毅伟;曹春;沈小明;夏贤梦;赖慧颖;李佳伟;马鹏程;付欢;王宵冰;庞茂璋;马致远 | 申请（专利权）人： | 之江实验室;浙江大学 |
| 主分类号： | G03F7/027 | 分类号： | G03F7/027;G03F7/20;G03F7/004 |
| 代理公司： | 杭州天正专利事务所有限公司 33201 | 代理人： | 俞慧 |
| 地址： | 311121 浙江*** | 国省代码： | 浙江;33 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种基于双抑制效应的高精度飞秒激光直写光刻胶组合物及其应用。所述飞秒激光直写光刻胶组合物包括单体、双光子引发剂和阻聚剂；所述单体选自丙烯酸酯类化合物和甲基丙烯酸酯类化合物中的一种或多种按任意配比的组合；以单体质量为100％计，双光子引发剂和阻聚剂的质量百分比为0.5‑5wt％和0.1‑5wt％。本发明公开的光刻胶组合物中加入了阻聚剂，利用化学抑制效应可以提高飞秒激光直写的刻写精度。本发明提供了所述光刻胶组合物在飞秒激光直写制备微结构中的应用，其结合了PPI的物理抑制和阻聚剂的化学抑制两种抑制效应，可以显著提高飞秒激光直写的刻写精度，获得极高精度的高质量刻写线条。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 抑制 效应 激光 光刻 组合 及其 应用 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于之江实验室;浙江大学，未经之江实验室;浙江大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202211599240.9/，转载请声明来源钻瓜专利网。
