[发明专利]一种用于半导体基片反应室的微弧氧化处理装置在审
| 申请号： | 202211603385.1 | 申请日： | 2022-12-13 |
| 公开（公告）号： | CN115852455A | 公开（公告）日： | 2023-03-28 |
| 发明（设计）人： | 王乃奎 | 申请（专利权）人： | 无锡纳斯凯半导体科技有限公司 |
| 主分类号： | C25D11/32 | 分类号： | C25D11/32 |
| 代理公司： | 无锡苏元专利代理事务所(普通合伙) 32471 | 代理人： | 吴忠义 |
| 地址： | 214000 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种用于半导体基片反应室的微弧氧化处理装置，涉及到氧化处理设备领域，包括进料仓，进料仓的顶端开设有方口，进料仓的内部固定连接有固定斜板，进料仓的内部设置有转动组件，转动组件包括弧形板，弧形板设置有多个，弧形板转动连接在进料仓的内部。本发明设置了转动组件，利用转动组件的设计，弧形板与第一转动轴，在第一电机的作用下，带动第一转动轴进行转动，在弧形板的带动下，有助于半导体基片单个有序的进行移动，便于半导体基片通过进料仓移动至移动板的顶部，当移动板的顶部盛放够半导体基片后，第一电机停止转动，而限位弧片限制住齿轮进行转动，避免半导体基片在进行运输时，发生碰撞的情况。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 半导体 反应 氧化 处理 装置 | ||
【主权项】：
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