[发明专利]一种磨粒流微流道抛光质量可靠性分析系统及方法在审
| 申请号： | 202211628701.0 | 申请日： | 2022-12-16 |
| 公开（公告）号： | CN115964940A | 公开（公告）日： | 2023-04-14 |
| 发明（设计）人： | 厉志安;李笑;潘柏松;葛江勤;李琛;唐萍;颜孙挺;施罗杰 | 申请（专利权）人： | 中国计量大学;浙江工业大学 |
| 主分类号： | G06F30/27 | 分类号： | G06F30/27;G06F30/17;G07C3/14;G06N7/01;B24B1/00;B81C1/00;G06F111/08;G06F119/02 |
| 代理公司： | 杭州浙科专利事务所(普通合伙) 33213 | 代理人： | 孙孟辉 |
| 地址： | 310018 浙江省*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种磨粒流微流道抛光质量可靠性分析系统，包括磨粒流抛光系统，质量检测系统和可靠性分析系统，所述磨粒流抛光系统用于微流控芯片内微流道的抛光加工；所述质量检测系统用于对加工后的微流道进行质量检测，得到检测值R；所述可靠性分析系统对加工质量的可靠性分析，分析的信息基础为加工参数P和检测得到的微流道加工质量检测值R；所述可靠性分析系统将调整后的加工参数传输给所述的磨粒流抛光系统，用于控制微流道抛光。本发明还公开了一种磨粒流微流道抛光质量可靠性分析方法。本发明利用新的学习函数，新学习函数引入的相关系数，既提高了模型在阈值附近的准确性，又能避免在低相关区域的准确性，确保了可靠性分析的准确性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 磨粒流微流道 抛光 质量 可靠性分析 系统 方法 | ||
【主权项】：
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