[发明专利]一种低噪声、高响应Ga2在审

专利信息
申请号: 202211630179.X 申请日: 2022-12-19
公开(公告)号: CN115810694A 公开(公告)日: 2023-03-17
发明(设计)人: 董鑫;焦腾;陈威;张源涛;邓高强;张宝林 申请(专利权)人: 吉林大学
主分类号: H01L31/18 分类号: H01L31/18;H01L31/032;H01L31/0352;H01L31/0368;H01L31/107
代理公司: 长春吉大专利代理有限责任公司 22201 代理人: 刘世纯;王恩远
地址: 130012 吉林省长春市*** 国省代码: 吉林;22
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摘要: 一种低噪声、高响应Ga2O3基雪崩光电二极管(APD)及其制备方法,属于属于半导体光电探测器技术领域。依次由p‑Si衬底、低厚度n‑Ga2O3薄膜、高厚度UID‑Ga2O3薄膜、n+‑Ga2O3欧姆接触层、欧姆接触电极组成,薄膜外延全部由MOCVD工艺而成。本发明能够实现低噪声、高响应的Ga2O3基SAM‑APD制备,可以在mm2数量级的器件面积下,实现~104A/W的响应度。本发明克服了目前水平结构Ga2O3紫外探测器电流密度较低、响应低、工艺复杂的问题,能够有效提高Ga2O3紫外探测器的响应度,进而促进其实际应用。
搜索关键词: 一种 噪声 响应 ga base sub
【主权项】:
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