[发明专利]半导体工艺设备的自动补液装置及其排空方法在审

专利信息
申请号: 202211662136.X 申请日: 2022-12-23
公开(公告)号: CN116006893A 公开(公告)日: 2023-04-25
发明(设计)人: 郝芳芳;周厉颖 申请(专利权)人: 北京北方华创微电子装备有限公司
主分类号: F17C7/04 分类号: F17C7/04;F17C13/00;F17D1/04;F17D1/07;F17D1/08;F17D3/01;F17D3/18
代理公司: 北京思创毕升专利事务所 11218 代理人: 廉莉莉
地址: 100176 北京市大*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 本申请涉及半导体工艺设备的自动补液装置及其排空方法。本申请所公开的自动补液装置,通过增设第一吹扫气源、第二吹扫气源、第一吹扫管路、第二排气管路、第一阀门组件,并将之恰当地连接在自动补液装置中的合适位置,使得能够基于该装置完全排空进液管路和储液装置中的残留,避免了因设备中存在易燃性、腐蚀性残留而导致的生产事故,显著提高了生产安全保障,尤其提高了检修/更换设备的安全性和便利性。
搜索关键词: 半导体 工艺设备 自动 补液 装置 及其 排空 方法
【主权项】:
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