[发明专利]一种铌酸锂晶片清洗液在审
| 申请号： | 202211682400.6 | 申请日： | 2022-12-26 |
| 公开（公告）号： | CN116218609A | 公开（公告）日： | 2023-06-06 |
| 发明（设计）人： | 余迪;尹印;贺兆波;王亮;万杨阳;彭浩;臧洋;路明;孟牧麟;刘春丽;邓爱华 | 申请（专利权）人： | 湖北兴福电子材料股份有限公司 |
| 主分类号： | C11D1/72 | 分类号： | C11D1/72;C11D3/04;C11D3/43;C11D3/20;C11D3/34;C11D3/30;C11D3/28;C11D3/60;C11D7/26;C11D7/32;C11D7/34;C11D7/24;C11D7/50;C11D7/60;C11 |
| 代理公司： | 宜昌市三峡专利事务所 42103 | 代理人： | 成钢 |
| 地址： | 443007 湖北*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明属于半导体材料清洗领域，具体涉及一种铌酸锂晶片清洗液，该清洗液主要用于铌酸锂晶片表面的有机物污染、无机颗粒残留和金属杂质，且清洗液几乎不腐蚀铌酸锂晶片，主要成分包括10~30%的非氧化性酸、10~35%的有机溶剂、1~5%的表面活性剂、纯水。该清洗液性质稳定，具有较高闪点，使用时安全系数高，具有广阔的使用前景和工业化使用价值。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 铌酸锂 晶片 清洗 | ||
【主权项】：
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