[发明专利]密闭多孔的苯并噁嗪树脂基低介电材料的制备方法在审

专利信息
申请号: 202211691433.7 申请日: 2022-12-28
公开(公告)号: CN116284959A 公开(公告)日: 2023-06-23
发明(设计)人: 詹浩;陈明;王林祥;蔡鹏;姜孝武 申请(专利权)人: 久耀电子科技(江苏)有限公司
主分类号: C08J9/26 分类号: C08J9/26;C08F112/12;C08L61/34;C08F4/52
代理公司: 淮安市科文知识产权事务所 32223 代理人: 廖娜;李锋
地址: 223001 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种密闭多孔的苯并噁嗪树脂基低介电材料的制备方法,该制备方法包括如下步骤:将制备的聚α‑甲基苯乙烯星型聚合物与特定结构的苯并噁嗪按照一定比例溶解在适当的溶剂中形成均匀的真溶液,真空脱泡后浇注到预热的模具中梯度升温固化,在固化过程中热分解温度低的聚α‑甲基苯乙烯星型聚合物(聚合上限温度Tc=61oC)发生热分解后形成孔径均一的密闭孔,得到密闭多孔的苯并噁嗪树脂基低介电材料。通过本发明制备的密闭多孔材料的孔径分布均一,孔隙分布均匀,具有低介电常数和高击穿强度,且兼具优异的力学强度和尺寸稳定性,可用于高频覆铜板领域。
搜索关键词: 密闭 多孔 树脂 基低介电 材料 制备 方法
【主权项】:
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