[发明专利]一种化学机械抛光系统和抛光方法在审
| 申请号： | 202211702251.5 | 申请日： | 2022-12-29 |
| 公开（公告）号： | CN116175398A | 公开（公告）日： | 2023-05-30 |
| 发明（设计）人： | 王剑;路新春;王同庆 | 申请（专利权）人： | 华海清科股份有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/04 | 分类号： | B24B37/04;B24B37/34;B24B55/06 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 300350 天*** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种化学机械抛光系统和抛光方法，所述化学机械抛光系统包括：前置单元；抛光单元；清洗单元，设置于前置单元与抛光单元之间；其中，所述清洗单元包括第一清洗单元和第二清洗单元，所述第一清洗单元与第二清洗单元相对于清洗单元的横向中心线对称设置，两者之间配置有横向传输机械手、第一缓存装置和第二缓存装置，所述第一缓存装置和第二缓存装置设置于所述横向传输机械手的两侧；所述第一清洗单元和第二清洗单元包括后处理模块和竖向传输机械手，所述后处理模块围绕所述竖向传输机械手设置。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 化学 机械抛光 系统 抛光 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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