[发明专利]光学临近效应修正方法及装置、存储介质、终端在审

专利信息
申请号: 202211724451.0 申请日: 2022-12-30
公开(公告)号: CN116224707A 公开(公告)日: 2023-06-06
发明(设计)人: 请求不公布姓名 申请(专利权)人: 全芯智造技术有限公司
主分类号: G03F1/36 分类号: G03F1/36;G03F7/20;G06N3/0464
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 张英英
地址: 230088 安徽省合肥市高新区*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 一种光学临近效应修正方法及装置、存储介质、终端,所述方法包括:对待修正版图中的各个待修正图形进行分割,每个待修正图形的每条边被分割为一条或多条线段;确定每条线段的第一数量条邻近线段;确定每一条线段的节点信息,所述节点信息包括线段的类型以及该线段的各条邻近线段与该线段之间的距离,并基于各条线段的节点信息采用卷积神经网络模型输出各条线段的修正移动信息;基于修正移动信息构建修正后的版图。本发明可以提高修正移动信息的准确性,并且有效降低处理成本。
搜索关键词: 光学 临近 效应 修正 方法 装置 存储 介质 终端
【主权项】:
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