[发明专利]阵列基板及其制备方法、显示装置在审
| 申请号： | 202211742772.3 | 申请日： | 2022-12-29 |
| 公开（公告）号： | CN116125713A | 公开（公告）日： | 2023-05-16 |
| 发明（设计）人： | 杨依林;康报虹 | 申请（专利权）人： | 惠科股份有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1362 | 分类号： | G02F1/1362;H01L21/77;H01L27/12;G02F1/1368 |
| 代理公司： | 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) 44280 | 代理人： | 强珍妮 |
| 地址： | 518101 广东省深圳市宝安区石岩街道石龙社区*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本申请公开了一种阵列基板及其制备方法、显示装置，制备方法包括提供基板，沉积第一透明金属氧化物导电层；采用第一道光罩对第一透明金属氧化物导电层图案化，形成公共电极与透明导电层；采用等离子还原性气体对透明导电层还原形成底栅；沉积缓冲层和有源层；采用第二道光罩对有源层图案化形成导电沟道；沉积第二透明金属氧化物导电层；采用第三道光罩对第二透明金属氧化物导电层图案化形成第一导电层和第二导电层；采用等离子还原性气体对第一导电层和第二导电层还原得到源极和漏极；沉积第一钝化层与栅极金属层；采用第四道光罩对栅极金属层图案化形成顶栅。通过上述方法，解决了现有技术中无法在兼顾成本的条件下保证器件稳定性的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 阵列 及其 制备 方法 显示装置 | ||
【主权项】：
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