[实用新型]一种预防足下垂和足跟疮的辅助治疗装置

摘要

本申请提供了一种预防足下垂和足跟疮的辅助治疗装置，包括放置架，放置架的顶部设置有预防足下垂的第一限位机构，放置架的端部设置有预防足跟压疮的第二限位机构。本申请通过设置第一限位机构和第二限位机构，使患者的脚部受到弹性带的限制，使脚掌不易下垂，并且可以通过调节限位板，使辅助治疗装置可以适配不同患者的脚，通过可以移动的活动环，使患者的脚放入放置架的上时，活动环可以移动至脚跟的一侧，使脚跟置于弹性带与放置架之间，裸露在外，并且活动环可以抵在脚跟的一侧，脚跟不会处于长期支撑脚跟腿重量的状态下出现压疮。