[实用新型]一种改善硅片表面扩散工艺的扩散机构

摘要

本实用新型公开了一种改善硅片表面扩散工艺的扩散机构，包括炉体，炉体内部设有用于通入扩散气体的进气单元，进气单元包括进气管，进气管上设有用于对气流进行缓冲汇集的气流集中管，气流集中管两侧位置均设有用于对扩散气体通入进行牵引延伸的牵引组件和用于对扩散气体进行推进扩散的推进组件，牵引组件包括牵引管，推进组件包括推进管，牵引管和推进管均与气流集中管连接，推进管与气流集中管相对的位置设有引入扩散气体的引入口，旨在对扩散管道进行改进，增加若干缓冲、推进扩散气体的管道，在扩散炉横向和纵向不同位置将扩散气体均匀的通入扩散炉内，提高硅片的扩散效率。