[实用新型]一种用于反应熔体浸渗的工艺装置有效
| 申请号： | 202220722544.9 | 申请日： | 2022-03-31 |
| 公开（公告）号： | CN217459269U | 公开（公告）日： | 2022-09-20 |
| 发明（设计）人： | 施伟伟;李明;张钰莹;崔鹏;薛亮;张巧君;王敏 | 申请（专利权）人： | 西安航空制动科技有限公司 |
| 主分类号： | C04B35/83 | 分类号： | C04B35/83;C04B35/84;C04B35/565;C04B35/622 |
| 代理公司： | 中国航空专利中心 11008 | 代理人： | 张昕 |
| 地址： | 710075 陕*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | 本实用新型提供了一种用于反应熔体浸渗的工艺装置，包括：坩埚Ⅰ，至少一个坩埚Ⅱ，盖板和顶板；坩埚Ⅰ和坩埚Ⅱ均为石墨材质的圆筒状顶部开口结构，坩埚Ⅰ放置于工艺装置的最底部，其顶部开口处放置有盖板，上方依次放置坩埚Ⅱ和盖板，位于最上端坩埚Ⅱ的盖板上放置有顶板；每层盖板的中心开设有圆形通气孔，每层盖板上端放置有石墨纸，且石墨纸上铺设有碳粉，用于在采用工艺装置进行RMI工艺的过程中，将从通气孔溢散发出来的硅蒸气及时吸收。本实用新型实施例的技术方案解决了现有用于RMI工艺的工装为敞口石墨坩埚，从而导致硅蒸气腐蚀后易开裂，使用寿命短的问题，以及硅蒸气从反应室逸散到高温炉内部腐蚀高温炉发热体及元器件的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 反应 熔体浸渗 工艺 装置 | ||
【主权项】：
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