[实用新型]一种低栅漏电容梯型栅沟槽型的功率器件有效

专利信息
申请号: 202220963616.9 申请日: 2022-04-25
公开(公告)号: CN217485454U 公开(公告)日: 2022-09-23
发明(设计)人: 张瑜洁;张长沙;何佳;李佳帅 申请(专利权)人: 浏阳泰科天润半导体技术有限公司
主分类号: H01L29/78 分类号: H01L29/78;H01L29/423;H01L29/06;H01L21/336
代理公司: 福州市鼓楼区京华专利事务所(普通合伙) 35212 代理人: 王牌
地址: 410300 湖南省长沙市浏阳高新技*** 国省代码: 湖南;43
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摘要: 实用新型提供了一种低栅漏电容梯型栅沟槽型的功率器件,包括:碳化硅衬底,漂移层,所述漂移层设于所述碳化硅衬底的上侧面,所述漂移层上设有一掩蔽层;夹断区,所述夹断区底部连接至所述漂移层,所述夹断区内设有源区;梯形槽,所述梯形槽上宽下窄,所述梯形槽底部设于所述漂移层上,且连接至所述掩蔽层,所述梯形槽穿过所述夹断区,所述梯形槽内设有栅极绝缘层;栅极,所述栅极连接至所述栅极绝缘层;源极金属层,所述源极金属层连接至所述源区顶部以及夹断区顶部;栅极金属层,所述栅极金属层连接至所述栅极;以及,漏极金属层,所述漏极金属层连接至所述碳化硅衬底下侧面;将功率器件的栅电容进行减少,从而提高器件的开关速度。
搜索关键词: 一种 漏电 容梯型栅 沟槽 功率 器件
【主权项】:
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