[实用新型]一种HJT电池平板HWCVD设备工艺腔及设备有效
申请号: | 202221115341.X | 申请日: | 2022-05-10 |
公开(公告)号: | CN217202945U | 公开(公告)日: | 2022-08-16 |
发明(设计)人: | 程银华;王强 | 申请(专利权)人: | 国润能源集团有限公司 |
主分类号: | C23C16/24 | 分类号: | C23C16/24;C23C16/44;C23C16/54 |
代理公司: | 烟台上禾知识产权代理事务所(普通合伙) 37234 | 代理人: | 赵加鑫 |
地址: | 250000 山东省济南市历下*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | 本实用新型涉及一种HJT电池平板HWCVD设备工艺腔及设备,其工艺腔包括工艺腔腔体,所述工艺腔腔体包括左腔壁和右腔壁,在所述左腔壁及右腔壁的上部沿物料移动方向均布有加热丝,所述加热丝的两端设有插头,所述左腔壁及右腔壁设有插座,所述插头与所述插座电性连接,所述加热丝的外部设有套管,所述插头安装在所述套管上,所述加热丝与所述插头电性连接。本实用新型将加热丝由立式设置改为平板式安装在工艺腔腔体的上部,电池tray板从加热丝的下方通过,易于沉积镀膜,镀膜效果好;加热丝不易发生抖动或者变形;自动化取料故障率低。 | ||
搜索关键词: | 一种 hjt 电池 平板 hwcvd 设备 工艺 | ||
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
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