[实用新型]一种原子层沉积设备用新型上料台有效
| 申请号： | 202221212568.6 | 申请日： | 2022-05-20 |
| 公开（公告）号： | CN217398988U | 公开（公告）日： | 2022-09-09 |
| 发明（设计）人： | 徐涛;左雪芹 | 申请（专利权）人： | 江苏迈纳德微纳技术有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/54 | 分类号： | C23C16/54;C23C16/455 |
| 代理公司： | 无锡科嘉知信专利代理事务所(普通合伙) 32515 | 代理人： | 顾翰林 |
| 地址： | 214000 江苏省无锡市新*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种沉积设备的改进，特别涉及一种原子层沉积设备用新型上料台；包括基座(1)上安装有伸缩机构一(2)，伸缩机构一(2)的伸缩端与上料底座(3)连接，上料底座(3)通过连接柱一(4)与上料基板(5)连接，上料基板(5)通过连接件(6)与上料板(7)连接，所述上料基板(5)与上料板(7)之间存在间隙；还包括伸缩机构二(8)、连接柱二(9)和顶杆(10)，所述伸缩机构二(8)的机身安装在上料底座(3)上，伸缩机构二(8)的伸缩端通过连接柱二(9)与顶杆(10)连接，所述顶杆(10)位于上料基板(5)与上料板(7)之间，所述上料板(7)上设有通孔(11)若干，所述顶杆(10)还与通孔(11)滑动配合。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 原子 沉积 备用 新型 上料台 | ||
【主权项】：
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
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C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
