[实用新型]一种沉淀法二氧化硅干法研磨装置有效
| 申请号： | 202221332099.1 | 申请日： | 2022-05-30 |
| 公开（公告）号： | CN217450448U | 公开（公告）日： | 2022-09-20 |
| 发明（设计）人： | 杨远光;任国伟;高海明 | 申请（专利权）人： | 山东联科卡尔迪克白炭黑有限公司 |
| 主分类号： | B02C19/00 | 分类号： | B02C19/00;B08B15/04 |
| 代理公司： | 北京哌智科创知识产权代理事务所(普通合伙) 11745 | 代理人： | 刘小兵 |
| 地址： | 261000 山东省潍坊市临朐县东城街道*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了研磨装置领域的一种沉淀法二氧化硅干法研磨装置，包括成品料仓，成品料仓下端通过两个下料管道分别与第一包装机和研磨机连接且两个下料管道上分别设置有第一卸料阀和第二卸料阀，研磨机通过管道与布袋除尘器连接且管道上设置有第二控制阀，布袋除尘器通过管道与引风机连接，布袋除尘器通过下料管道与小料仓连接且下料管道上设置有第三卸料阀，首先保留原包装流程，实现生产线多种规格粒度要求产品的加工需求，然后新增研磨机和布袋除尘器，实现产品颗粒大小的深加工，满足超细二氧化硅客户群体的需求，最后实现了沉淀法二氧化硅干产品精细加工，节能环保，并且控制更加稳定。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 沉淀 二氧化硅 研磨 装置 | ||
【主权项】：
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