[实用新型]一种用于SAR ADC的电容版图结构有效

专利信息
申请号: 202221521531.1 申请日: 2022-06-17
公开(公告)号: CN218123228U 公开(公告)日: 2022-12-23
发明(设计)人: 桂智勇 申请(专利权)人: 成都通量科技有限公司
主分类号: H01G4/38 分类号: H01G4/38;H01G4/005;H01L23/522
代理公司: 成都知棋知识产权代理事务所(普通合伙) 51325 代理人: 马超前
地址: 611731 四川省成*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 实用新型公开了一种用于SARADC的电容版图结构,该电容版图结构的单位电容包括:金属线层二,其包括有两个上极板与一个下极板;其中,两个上极板均具有“凵”字形结构,两个上极板的开口相对且相距一距离;所述下极板具有十字形结构,该十字形结构的一边的两端分别插入至两个上极板的“凵”字形结构内,与“凵”字形结构的侧边平行且相隔一距离,十字形结构的另一边处于两个上极板的开口之间且与上极板的开口相隔一距离;金属线层三,其与所述金属线层二上的上极板的侧边平行且通过绝缘层相贴合,用于将两个上极板合并连接在一起。本实用新型的单位电容版图具有在使用工艺库中的电容时,可节省版图面积、降低成本的特点。
搜索关键词: 一种 用于 sar adc 电容 版图 结构
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