[实用新型]一种外延石墨基座有效
申请号: | 202221563890.3 | 申请日: | 2022-06-21 |
公开(公告)号: | CN217418861U | 公开(公告)日: | 2022-09-13 |
发明(设计)人: | 袁永红;周祖豪;雷宏涛 | 申请(专利权)人: | 深圳市志橙半导体材料有限公司 |
主分类号: | C30B25/12 | 分类号: | C30B25/12;C30B29/06 |
代理公司: | 深圳汉林汇融知识产权代理事务所(普通合伙) 44850 | 代理人: | 刘临利 |
地址: | 518000 广东省深圳市宝安区*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 暂无信息 | 说明书: | 暂无信息 |
摘要: | 本实用新型涉及外延生长技术领域,公开了一种外延石墨基座,包括基座本体以及多个载台;载台包括设置在载台内的多个控温凸台、设置在载台边缘处的多个载台台阶,载台具有一底面;多个载台台阶用于放置衬底,衬底面向载台的一面与底面之间的空间为隔温腔体;在竖直方向上,设置在载台内的多个控温凸台的的高度各不相同,以使衬底面向载台的一面与底面之间的隔温腔体成为不规则隔温腔体。本申请提供的外延石墨基座,通过多个控温凸台设置在载台内,设置在载台内的多个控温凸台的高度各不相同,使衬底与底面之间形成不同形状的不规则隔温腔体,以影响对应区域衬底与石墨基座间的温度;避免某个区域的外延片波长异常,提高整个外延片波长的均匀性。 | ||
搜索关键词: | 一种 外延 石墨 基座 | ||
【主权项】:
暂无信息
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