[实用新型]薄膜器件原位横截面制备与工况表征的超高真空样品托有效
申请号: | 202221649601.1 | 申请日: | 2022-06-29 |
公开(公告)号: | CN218069775U | 公开(公告)日: | 2022-12-16 |
发明(设计)人: | 王文元;王成;陈琪;陈立桅 | 申请(专利权)人: | 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所 |
主分类号: | H01J37/20 | 分类号: | H01J37/20 |
代理公司: | 苏州市中南伟业知识产权代理事务所(普通合伙) 32257 | 代理人: | 冯瑞 |
地址: | 215000 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种薄膜器件原位横截面制备与工况表征的超高真空样品托,所述超高真空样品托包括底座机构和夹具机构,所述底座机构包括底板和至少两个样品托电极,所述样品托电极绝缘固定于所述底板上,所述夹具机构安装于所述底板上,所述夹具机构包括水平距离可调的两个夹具组件,每个所述夹具组件包括沿渐远另一个所述夹具组件的方向依次设置的器件电极和夹板,所述器件电极绝缘固定于所述夹板上。本实用新型可以将薄膜器件保持在竖立姿态,因此可以在超高真空环境中进行薄膜器件横截面的制备和工况表征,使得利用超高真空环境样品测量装置表征器件横截面成为可能,实现了薄膜器件横截面的高分辨表征需求。 | ||
搜索关键词: | 薄膜 器件 原位 横截面 制备 工况 表征 超高 真空 样品 | ||
【主权项】:
暂无信息
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