[实用新型]涂胶设备

摘要

本申请公开了一种涂胶设备；其中，涂胶设备包括等离子清洗装置和涂布装置；所述等离子清洗装置包括第一载置台及等离子清洗头，所述第一载置台用于载置待涂胶产品，所述等离子清洗头面向所述待涂胶产品，用于清洗产品并使等离子体附着于产品表面；所述涂布装置用于对清洗后的待涂胶产品进行涂敷胶水。本申请通过在涂布装置对待涂胶产品进行涂敷胶水之前，使用等离子清洗头对待涂胶产品进行清洗，增强了待涂胶产品表面的粗糙度，增强了胶水在产品表面的摩擦力。使该摩擦力大于胶水本身的表面张力，从而减少胶水移动，降低胶水表面产生凹坑和气泡的数量。