[实用新型]一种用于光掩模的防静电破坏结构有效
| 申请号： | 202222297447.2 | 申请日： | 2022-08-30 |
| 公开（公告）号： | CN218103608U | 公开（公告）日： | 2022-12-20 |
| 发明（设计）人： | 郭贵琦;张家玮;韦丽萍 | 申请（专利权）人： | 广州新锐光掩模科技有限公司 |
| 主分类号： | H05F3/00 | 分类号： | H05F3/00;G03F1/00 |
| 代理公司： | 北京清大紫荆知识产权代理有限公司 11718 | 代理人： | 黎飞鸿;黄贞君 |
| 地址： | 510555 广东省广州市(*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本申请提供了一种用于光掩模的防静电破坏结构，属于光掩模技术领域，具体包括用于光掩模防静电破坏结构，包括设置在光掩模客户图形区周围的抗静电环，抗静电环设置为沿客户图形区外周的绝缘的闭环结构，抗静电环用于防止静电放电破坏客户图形区；与抗静电环的外周相隔一定距离处设有电荷释放区，电荷释放区设置为条形结构，条形结构的一端始于光掩模的第一边，条形结构的另一端始于光掩模的第二边，第一边与第二边为相对边，电荷释放区用于将静电产生的电荷引到客户图形区外进行释放。通过本申请的处理方案，有效保护光掩模客户图形区，提高了芯片的良率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 光掩模 静电 破坏 结构 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于广州新锐光掩模科技有限公司，未经广州新锐光掩模科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202222297447.2/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种具有保温效果的纸箱
- 下一篇：一种光伏磨轮加工用打孔装置
