[实用新型]刻蚀滚轮、滚轮组件和刻蚀设备有效
| 申请号： | 202222383629.1 | 申请日： | 2022-09-07 |
| 公开（公告）号： | CN218160420U | 公开（公告）日： | 2022-12-27 |
| 发明（设计）人： | 王德全;付少剑;郁寅珑;张明明;郭小飞 | 申请（专利权）人： | 滁州捷泰新能源科技有限公司 |
| 主分类号： | H01L31/18 | 分类号： | H01L31/18;H01L21/67 |
| 代理公司： | 北京国昊天诚知识产权代理有限公司 11315 | 代理人： | 李秋华 |
| 地址： | 239236 安徽省滁州市来*** | 国省代码： | 安徽;34 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型提供一种刻蚀滚轮、滚轮组件和刻蚀设备，涉及硅片刻蚀技术领域。所述刻蚀滚轮中，刻蚀滚轮的周向表面上设置有用于黏取刻蚀液的沟槽，沟槽的深度在0.5‑1.0cm之间，且最宽处在0.1cm‑0.5cm之间。相比现有技术，本实用新型中刻蚀滚轮上的沟槽更深，进而可以更好地粘取刻蚀液，以使得滚轮上能够由足够的刻蚀液去刻蚀硅片背面的BSG，提高太阳能硅片的良品率。 | ||
| 搜索关键词： | 刻蚀 滚轮 组件 设备 | ||
【主权项】：
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射，或微粒辐射敏感的，并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的，或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件；专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的，例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的，一个或多个电光源，如场致发光光源在结构上相连的，并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射，或微粒辐射敏感的，并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的，或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件；专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的，例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的，一个或多个电光源，如场致发光光源在结构上相连的，并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
