[实用新型]一种化学气相沉积用气体分布装置有效

专利信息
申请号: 202222688921.4 申请日: 2022-10-12
公开(公告)号: CN218262740U 公开(公告)日: 2023-01-10
发明(设计)人: 李爽;丁阳;蔡村;孙彪;韦德远;辛毓 申请(专利权)人: 活石半导体(北京)有限公司
主分类号: C23C16/455 分类号: C23C16/455
代理公司: 北京新中汇知识产权代理事务所(普通合伙) 16069 代理人: 文信家
地址: 100000 北京市大兴区北京经济*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 实用新型涉及气体分布技术领域,具体为一种化学气相沉积用气体分布装置,包括分布装置主体,所述气体分布装置主体包括设备外壳,所述设备外壳的顶端外表面连接有泄压组件,所述设备外壳的内部连接有分布组件主体,所述设备外壳的内部连接有封盖,且封盖的内部连接有扶持组件,所述设备外壳的内壁连接有出气槽;所述扶持组件包括第一抵板、缓冲气囊、第一支撑杆、第一卡杆、出气槽。该化学气相沉积用气体分布装置,通过设置扶持组件,可有效方便沉积盘进行固定,减少气流冲击沉积盘时所产生的晃动,且该装置通过设置泄压组件,可有效通过气体冲击第一撑杆,使部分高压气体从设备外壳的内部排出,以增加泄压效果。
搜索关键词: 一种 化学 沉积 气体 分布 装置
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于活石半导体(北京)有限公司,未经活石半导体(北京)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202222688921.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top