[实用新型]一种MOCVD腔体通气孔保养工具有效
申请号: | 202223042216.3 | 申请日: | 2022-11-16 |
公开(公告)号: | CN219079640U | 公开(公告)日: | 2023-05-26 |
发明(设计)人: | 刘明亮 | 申请(专利权)人: | 远山新材料科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44 |
代理公司: | 济宁汇景知识产权代理事务所(普通合伙) 37254 | 代理人: | 朱培 |
地址: | 272100 *** | 国省代码: | 山东;37 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 一种MOCVD腔体通气孔保养工具,包括本体,本体的首段呈阶梯状结构设置有上孔管和下孔管,上孔管设置为较短的平直状结构,下孔管设置为较长的向下弯曲的弧状结构;本体的尾端设置有用于连接吸尘器软管的接口;上孔管和下孔管的宽度均为15毫米;下孔管超出上孔管的部分的长度为20毫米,具有能探入抽气孔内部、可清理台阶内部和直角死角的优点,更有利于抽气通畅,避免了生产周期内腔体抽气孔内槽附着积灰过多导致的压差不稳。 | ||
搜索关键词: | 一种 mocvd 通气孔 保养 工具 | ||
【主权项】:
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
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