[实用新型]一种半导体加工用防尘工作台有效

专利信息
申请号: 202223443782.5 申请日: 2022-12-21
公开(公告)号: CN219095059U 公开(公告)日: 2023-05-30
发明(设计)人: 吴智茂 申请(专利权)人: 莒南县金来电子有限公司
主分类号: B25H1/02 分类号: B25H1/02;B25H1/20
代理公司: 广州中粤知识产权代理事务所(普通合伙) 44752 代理人: 刘金菊
地址: 276600 山东*** 国省代码: 山东;37
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摘要: 实用新型公开了一种半导体加工用防尘工作台,包括工作台,所述半导体加工用防尘工作台还包括:防尘构件安装在所述工作台的顶端外壁;封闭构件安装在所述防尘构件的前表面;其中,所述防尘构件用于对工作台进行防尘工作,所述封闭构件用于对防尘构件形成封闭和取消封闭。本实用新型设置,通过设置的防尘构架在使用过程中,可以使工作台形成防尘空间,可以防止灰尘进入,同时通过设置的槽板和滤网,达到了可以对框架的内部进行通风工作,同时可以防止灰尘进入,通过设置的封闭构件,达到了配合防尘构件进行防尘工作,同时可以便于工作人员的进出工作,同时增加框架内部的通风性。
搜索关键词: 一种 半导体 工用 防尘 工作台
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