[实用新型]一种静电吸盘有效
| 申请号： | 202223560735.9 | 申请日： | 2022-12-30 |
| 公开（公告）号： | CN218939633U | 公开（公告）日： | 2023-04-28 |
| 发明（设计）人： | 夏世伟;王占柱;李轩;王吉祥;杨立军 | 申请（专利权）人： | 上海凯世通半导体股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/683 | 分类号： | H01L21/683 |
| 代理公司： | 上海市一平律师事务所 31365 | 代理人： | 邢德杰;张欣 |
| 地址： | 201203 上海市浦东新区*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种静电吸盘，可用于半导体制造领域。该静电吸盘的圆盘状吸附区在周向上分割为多个面积相同的扇形区域，且在径向上分割为同样多个面积不相同的环形区域，由此整个吸附区被分割成若干个扇环区，位于特定位置上的多个扇环区按照特定顺序依次连通作为一极，使得每一极在各个区域都有分布。由于每一极在各个区域上所产生的圆周方向的力矩相接近甚至相等，因此能够有效地解决因旋转电场所带来的晶圆跟转问题。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 静电 吸盘 | ||
【主权项】：
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
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