[发明专利]一种晶体管、半导体集成电路在审
申请号: | 202280006653.3 | 申请日: | 2022-01-12 |
公开(公告)号: | CN116762178A | 公开(公告)日: | 2023-09-15 |
发明(设计)人: | 王学雯;李泠霏;吴颖;许俊豪 | 申请(专利权)人: | 华为技术有限公司 |
主分类号: | H01L29/78 | 分类号: | H01L29/78 |
代理公司: | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人: | 刘茹 |
地址: | 518129 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 暂无信息 | 说明书: | 暂无信息 |
摘要: | 本申请实施例提供一种晶体管、包含该晶体管的半导体集成电路。涉及半导体技术领域。主要目的是为了提供一种可以实现低能耗、小尺寸的晶体管结构。该晶体管包括:源极、漏极和沟道,以及栅极,并且,由半导体材料形成的沟道设置在源极和漏极之间,栅极堆叠在沟道的至少部分表面上,也就是说,这里的晶体管属于一种三端子半导体器件。除此之外,该晶体管还包括应力层和用于给应力层施加电压的应力栅极,且源极和漏极的至少部分表面上堆叠有应力层,应力控制栅层堆叠在应力层上。 | ||
搜索关键词: | 一种 晶体管 半导体 集成电路 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于华为技术有限公司,未经华为技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202280006653.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类