[发明专利]一种晶体管、半导体集成电路在审

专利信息
申请号: 202280006653.3 申请日: 2022-01-12
公开(公告)号: CN116762178A 公开(公告)日: 2023-09-15
发明(设计)人: 王学雯;李泠霏;吴颖;许俊豪 申请(专利权)人: 华为技术有限公司
主分类号: H01L29/78 分类号: H01L29/78
代理公司: 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 代理人: 刘茹
地址: 518129 广东*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 暂无信息 说明书: 暂无信息
摘要: 本申请实施例提供一种晶体管、包含该晶体管的半导体集成电路。涉及半导体技术领域。主要目的是为了提供一种可以实现低能耗、小尺寸的晶体管结构。该晶体管包括:源极、漏极和沟道,以及栅极,并且,由半导体材料形成的沟道设置在源极和漏极之间,栅极堆叠在沟道的至少部分表面上,也就是说,这里的晶体管属于一种三端子半导体器件。除此之外,该晶体管还包括应力层和用于给应力层施加电压的应力栅极,且源极和漏极的至少部分表面上堆叠有应力层,应力控制栅层堆叠在应力层上。
搜索关键词: 一种 晶体管 半导体 集成电路
【主权项】:
暂无信息
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