[发明专利]用于清洁用于EVU光刻系统的部件的表面的方法在审
| 申请号： | 202280009114.5 | 申请日： | 2022-01-04 |
| 公开（公告）号： | CN116685717A | 公开（公告）日： | 2023-09-01 |
| 发明（设计）人： | C·阿斯法尔格;K·布劳恩;R·温特;J·格里贝尔;C·海涅;R·贝姆;O·达赫瓦尔德 | 申请（专利权）人： | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 |
| 主分类号： | C23G5/036 | 分类号： | C23G5/036 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 王蕊瑞 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本发明涉及一种清洁用于EUV光刻系统的部件(25)的表面(26)的方法，包括：在将部件(25)集成到EUV光刻系统中之前，清洁部件(25)的表面(26)以从表面(26)去除污物(27)。部件(25)的表面(26)的清洁包括：分析部件(25)的表面(26)以识别部件(25)的表面(26)处的氢挥发性污物(27)，以及在至少一个清洁步骤中从部件(25)的表面(26)去除氢挥发性污物(27)。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 清洁 evu 光刻 系统 部件 表面 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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