[发明专利]光学系统、光刻设备和方法在审
| 申请号： | 202280011254.6 | 申请日： | 2022-01-05 |
| 公开（公告）号： | CN116868129A | 公开（公告）日： | 2023-10-10 |
| 发明（设计）人： | H·费尔德曼;S·亨巴赫 | 申请（专利权）人： | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 王蕊瑞 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本发明涉及一种用于光刻设备(100A、100B)的光学系统(200)，具有光学元件(202)，该光学元件包括衬底(204)、设置在衬底(204)上的光学有效区域(210、210’)以及多个通道(212、212’、214、214’、212A、214A、212B、214B、212C、214C、212D、214D、212E、214E、212F、214F、212G、214G、212H、214H、212J、214J、212I、214I)，所述通道延伸穿过衬底(204)，并且可以通过流体(F)向所述多个通道施加压强(p)。初始表面轮廓(P1)和不同于初始表面轮廓(P1)的目标表面轮廓(P2)与光学有效区域(210、210’)相关联，并且光学有效区域(210、210’)可以借助于压强的施加和导致的通道(212、212’、214、214’、212A、214A、212B、214B、212C、214C、212D、214D、212E、214E、212F、214F、212G、214G、212H、214H、212J、214J、212I、214I)的变形从初始表面轮廓(P1)切换到目标表面轮廓(P2)。 | ||
| 搜索关键词： | 光学系统 光刻 设备 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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