[发明专利]透明导电性薄膜的制造方法在审
| 申请号： | 202280011988.4 | 申请日： | 2022-09-14 |
| 公开（公告）号： | CN116868286A | 公开（公告）日： | 2023-10-10 |
| 发明（设计）人： | 鸦田泰介;藤野望;鹰尾宽行 | 申请（专利权）人： | 日东电工株式会社 |
| 主分类号： | H01B13/00 | 分类号： | H01B13/00 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇;韩平 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 透明导电性薄膜(3)的制造方法具备：第1工序，准备长条的基材(1)；第2工序，在真空气氛下在基材(1)的厚度方向一个面形成透明导电层(2)；和第3工序，在真空气氛下，使用加热辊(22)对透明导电层2进行加热。 | ||
| 搜索关键词： | 透明 导电性 薄膜 制造 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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