[发明专利]自对准纳米柱涂层及其制造方法在审
| 申请号： | 202280013991.X | 申请日： | 2022-01-05 |
| 公开（公告）号： | CN116940866A | 公开（公告）日： | 2023-10-24 |
| 发明（设计）人： | S·弗罗茨曼德;P·拉塔维茨 | 申请（专利权）人： | 梅特兰兹股份有限公司 |
| 主分类号： | G02B1/00 | 分类号： | G02B1/00 |
| 代理公司： | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人： | 周阳君 |
| 地址： | 美国马*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 超颖表面设备可以有利地用于小型化、平面化和薄膜、高空间分辨率以及密集集成到光学设备中。它们有潜力用于使波束传播方向转向、整形波前光，以及为诸如感测、成像、光检测和测距之类的应用传递信息。但是，与传统光学设备相比，超颖表面设备可以具有差的整体效率。本公开的实施例涉及包括具有低折射率涂层的高折射率柱的图案的超颖表面设备。有利地，低折射率涂层可以提高超颖表面设备的光学效率，这可以使这些超颖表面设备适合于多种应用。 | ||
| 搜索关键词： | 对准 纳米 涂层 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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