[发明专利]显示装置的制造方法在审

专利信息
申请号: 202280017702.3 申请日: 2022-03-01
公开(公告)号: CN116941328A 公开(公告)日: 2023-10-24
发明(设计)人: 江口晋吾;鱼地秀贵 申请(专利权)人: 株式会社半导体能源研究所
主分类号: H05B33/10 分类号: H05B33/10
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 宋俊寅;张鑫
地址: 日本神*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 暂无信息 说明书: 暂无信息
摘要: 提供一种新颖的显示装置的制造方法。该显示装置的制造方法包括:依次形成阳极、第一EL层、第一阴极及第一层的工序;在第一层上形成第一抗蚀剂掩模的工序;选择性地去除阳极、第一EL层、第一阴极及第一层各自的一部分的工序;去除第一抗蚀剂掩模的一部分的工序;选择性地去除第一EL层、第一阴极及第一层各自的其他一部分的工序;以及去除第一抗蚀剂掩模的工序。第一抗蚀剂掩模使用多级灰度掩模形成。
搜索关键词: 显示装置 制造 方法
【主权项】:
暂无信息
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