[发明专利]使用间距补偿降低靶材寿命内的基板温度不均匀性在审
| 申请号： | 202280019563.8 | 申请日： | 2022-02-15 |
| 公开（公告）号： | CN116940706A | 公开（公告）日： | 2023-10-24 |
| 发明（设计）人： | 苏哈斯•班加罗尔•乌梅什;普雷塔姆·拉奥;希里什语•A•佩特;张富宏;基索尔•库马尔•卡拉提帕拉比尔;马丁·李·瑞克;仲兰兰 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 徐金国;吴启超 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 在此提供处理多个基板的方法及设备。在一些实施方式中，在物理气相沉积(PVD)腔室中处理多个基板的方法包括：在设置于PVD腔室中的溅射靶材的寿命的至少一部分期间，在对应的一系列的基板上执行一系列的再流处理，其中在PVD腔室中的基板至靶材距离及在PVD腔室内的支撑件至靶材距离各自被控制成溅射靶材的寿命的函数。 | ||
| 搜索关键词： | 使用 间距 补偿 降低 寿命 温度 不均匀 | ||
【主权项】：
暂无信息
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