[发明专利]发光基板及其光学补偿方法、相关设备在审
| 申请号： | 202310004686.0 | 申请日： | 2023-01-03 |
| 公开（公告）号： | CN115985901A | 公开（公告）日： | 2023-04-18 |
| 发明（设计）人： | 金美灵;高博;田超;胡国锋;陈振彰;张谦;刘晨凯;钱学海;刘小舟;孙元浩;张宝新 | 申请（专利权）人： | 京东方晶芯科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L25/16 | 分类号： | H01L25/16;H05B45/12;H05B45/18;H05B45/22;H05B45/28;H05B45/30;G01K13/00;G01K1/14 |
| 代理公司： | 北京风雅颂专利代理有限公司 11403 | 代理人： | 李莎 |
| 地址： | 100176 北京市大*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本公开提供一种发光基板及其光学补偿方法、相关设备。该发光基板，包括阵列排布的多个发光单元和设置在至少一个所述发光单元的一侧的至少一个测温单元，所述测温单元被配置为检测所述发光基板的温度以根据所述温度对所述测温单元所在位置对应的发光单元进行光学补偿。 | ||
| 搜索关键词： | 发光 及其 光学 补偿 方法 相关 设备 | ||
【主权项】：
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