[发明专利]一种范德瓦尔斯异质结型存储器件及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202310032710.1 申请日: 2023-01-10
公开(公告)号: CN116033821A 公开(公告)日: 2023-04-28
发明(设计)人: 房景治;林本川;王硕;崔浩楠;俞大鹏 申请(专利权)人: 南方科技大学
主分类号: H10N50/80 分类号: H10N50/80;H10N52/80;H10N52/00;H10N50/10;H10N50/01;H10N52/01
代理公司: 广东金泰智汇专利商标代理事务所(普通合伙) 44721 代理人: 江丽娇
地址: 518000 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开一种范德瓦尔斯异质结型存储器件及其制备方法,属于微纳器件磁存储领域。异质结的下层为二维磁性拓扑绝缘体,上层为二维铁磁绝缘体。本发明基于Si/SiO2衬底,通过机械剥离和干法转移技术制备所述异质结。在电学测量中,通过施加不同的极化磁场或磁场扫描过程,利用电学输运性质测量可以得到幅值不变、稳定调节的磁交换偏置输运曲线,并且在很高的磁场下仍然保持稳定状态。本发明这种稳定且可控的交换偏置现象有利于未来发展基于磁随机存储原理的低维纳米芯片。
搜索关键词: 一种 瓦尔 斯异质结型 存储 器件 及其 制备 方法
【主权项】:
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