[发明专利]一种范德瓦尔斯异质结型存储器件及其制备方法在审
申请号: | 202310032710.1 | 申请日: | 2023-01-10 |
公开(公告)号: | CN116033821A | 公开(公告)日: | 2023-04-28 |
发明(设计)人: | 房景治;林本川;王硕;崔浩楠;俞大鹏 | 申请(专利权)人: | 南方科技大学 |
主分类号: | H10N50/80 | 分类号: | H10N50/80;H10N52/80;H10N52/00;H10N50/10;H10N50/01;H10N52/01 |
代理公司: | 广东金泰智汇专利商标代理事务所(普通合伙) 44721 | 代理人: | 江丽娇 |
地址: | 518000 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: |
本发明公开一种范德瓦尔斯异质结型存储器件及其制备方法,属于微纳器件磁存储领域。异质结的下层为二维磁性拓扑绝缘体,上层为二维铁磁绝缘体。本发明基于Si/SiO |
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搜索关键词: | 一种 瓦尔 斯异质结型 存储 器件 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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