[发明专利]一种用于锗硒及其掺杂合金的化学机械抛光组合物在审
| 申请号： | 202310062225.9 | 申请日： | 2023-01-17 |
| 公开（公告）号： | CN116103657A | 公开（公告）日： | 2023-05-12 |
| 发明（设计）人： | 李程兴;周夕淋;刘卫丽;宋志棠;崔紫荆 | 申请（专利权）人： | 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 |
| 主分类号： | C23F3/06 | 分类号： | C23F3/06;C09G1/02 |
| 代理公司： | 上海泰博知识产权代理有限公司 31451 | 代理人： | 魏峯 |
| 地址： | 200050 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于锗硒及其掺杂合金的化学机械抛光组合物，包括0.1～3.0％氧化剂、0.01～1.0％碱金属添加剂、0.01～2.0％络合剂、0.1～2.0％第一缓蚀剂、0.2～2.0％第二缓蚀剂、0～5％磨料，其余为pH缓冲剂和去离子水。本发明通过碱金属添加剂的作用促进了化学反应进行可以获得较高的锗硒化学机械抛光速率，同时添加的组合缓腐蚀剂可以使得在静止状态下的腐蚀速率降低，降低抛光后的表面腐蚀坑情形，获得平滑表面，具有良好的综合效果。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 及其 掺杂 合金 化学 机械抛光 组合 | ||
【主权项】：
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