[发明专利]双色紫外吸收染料结构、双色光刻抗反射涂层及制备方法在审
| 申请号： | 202310082462.1 | 申请日： | 2023-01-18 |
| 公开（公告）号： | CN116009355A | 公开（公告）日： | 2023-04-25 |
| 发明（设计）人： | 杨佳宸 | 申请（专利权）人： | 上海英迈特材料科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004;G03F7/16;C09B57/00;G03F7/038 |
| 代理公司： | 上海恒锐佳知识产权代理事务所(普通合伙) 31286 | 代理人： | 吴浩 |
| 地址： | 200241 上海市闵*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种双色紫外吸收染料结构，具有苯酰或苯酰氧结构，且在羰基对位连接具有非键p电子对的取代基。所述双色紫外吸收染料结构对波长为193nm和248nm的电磁波均具有强吸收作用。本发明还提供了利用在分子结构中包含所述双色紫外吸收染料结构的成膜物质和配剂构成的抗反射涂层配方，以及使用所述抗反射涂层配方在衬底上经标准光刻旋涂工艺和热板烘烤进行热固化工艺，制备同时适合ArF与KrF受激准分子激光光刻的通用抗反射涂层的方法，所形成的通用抗反射涂层同时在两种波长的吸收系数k达到0.2以上。 | ||
| 搜索关键词： | 紫外 吸收 染料 结构 色光 反射 涂层 制备 方法 | ||
【主权项】：
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