[发明专利]用于PVD平面靶的磁控管装置与磁控溅射设备在审
| 申请号： | 202310083001.6 | 申请日： | 2023-01-16 |
| 公开（公告）号： | CN116190180A | 公开（公告）日： | 2023-05-30 |
| 发明（设计）人： | 杨洪生;黎左兴;张晓军 | 申请（专利权）人： | 深圳市矩阵多元科技有限公司 |
| 主分类号： | H01J25/50 | 分类号： | H01J25/50;C23C14/35 |
| 代理公司： | 广州嘉权专利商标事务所有限公司 44205 | 代理人： | 谢岳鹏 |
| 地址： | 518131 广东省深圳市龙华区民*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种用于PVD平面靶的磁控装置与磁控溅射设备，磁控装置包括磁控管，包括包括外侧磁组件、内侧磁组件与中间磁组件，外侧磁组件包括外侧直线单元与连接于外侧直线单元的端部的外侧弧形单元，内侧磁组件包括内侧直线单元，中间磁组件包括中间直线单元，外侧直线单元、内侧直线单元与中间直线单元均包括多个磁体，外侧直线单元与内侧直线单元内磁体的磁极连线垂直于平面靶，中间直线单元内磁体的磁极连线平行于平面靶，且中间直线单元内磁体的两个磁极分别朝向外侧直线单元与内侧直线单元。本发明既能够减少弧形部与直线部之间刻蚀能力的差距，提高靶材的利用率，又能够保证等离子体的点燃和维持。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 pvd 平面 磁控管 装置 磁控溅射 设备 | ||
【主权项】：
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