[发明专利]一种设有拓扑相变层的半导体激光元件在审

专利信息
申请号: 202310116518.0 申请日: 2023-02-15
公开(公告)号: CN116526295A 公开(公告)日: 2023-08-01
发明(设计)人: 李水清;王星河;蒙磊;蔡鑫;张江勇;马斯特;白怀铭;陆恩;周进泽;牧立一;徐浩翔 申请(专利权)人: 安徽格恩半导体有限公司
主分类号: H01S5/30 分类号: H01S5/30;H01S5/32;H01S5/34;H01S5/20
代理公司: 六安市新图匠心专利代理事务所(普通合伙) 34139 代理人: 武光勇
地址: 237000 安*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 发明提供了一种设有拓扑相变层的半导体激光元件,涉及半导体光电器件技术领域,从下至上依次包括衬底、下限制层、下波导层,有源层、上波导层、电子阻挡层、上限制层,衬底(100)与下限制层(101)之间设有拓扑相变层(107);拓扑相变层在可产生从无序顺电相与有序铁电相的过渡与转变,增强双磁子散射效应,形成1800以上Qe的巨大共振偏移量,增强磁电应力耦合效应,缓解激光元件的压电极化和热应力失配,降低价带带阶,提升载流子注入有源层的均匀性,改善增益均匀性,同时,诱导自旋相变,产生巨大的自旋序控制的磁电耦合系数,在电场作用下连续性可逆地调控磁致应力,进一步降低压热应力失配,抑制应力双折射现象,改善激光光束的去极化和失真。
搜索关键词: 一种 设有 拓扑 相变 半导体 激光 元件
【主权项】:
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