[发明专利]一种薄膜沉积设备和一种薄膜沉积方法

摘要

本发明公开了一种薄膜沉积设备和一种薄膜沉积方法。该薄膜沉积设备包括：喷淋板，设置于反应腔内，并包括多个喷淋孔，其中，反应气体通过该多个喷淋孔抵达该反应腔内的晶圆表面，以在该晶圆表面形成薄膜；以及挡气环，可拆卸地设置于该喷淋板的部分喷淋孔处，用于遮挡该部分喷淋孔，以调节该喷淋板下方的气体流量分布。上述薄膜沉积设备能够兼容不同工艺的参数规范以及稳定性要求，从而基于同一喷淋板来快速切换不同的薄膜沉积工艺。