[发明专利]一种基于线性拟合的图像平场校正方法及装置有效

专利信息
申请号: 202310160209.3 申请日: 2023-02-24
公开(公告)号: CN116029938B 公开(公告)日: 2023-06-23
发明(设计)人: 阮永蔚;钟洪萍;魏杰;胡美琴 申请(专利权)人: 浙江双元科技股份有限公司
主分类号: G06T5/00 分类号: G06T5/00;G06T5/50
代理公司: 北京市隆安律师事务所 11323 代理人: 杨云
地址: 310015 浙江省杭*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开了一种基于线性拟合的图像平场校正方法及装置,方法包括:采集拍摄物的多张图像;获取各张图像中每个像素点的原始像素值;建立作用于每个图像中关于每个像素点的信号增益矩阵和信号偏移量矩阵;根据原始像素值、信号增益矩阵和信号偏移量矩阵,建立关于每张图像的校正像素值的线性方程组;基于最小二乘法进行线性拟合,获得信号增益矩阵中的每个信号增益值和信号偏移量矩阵中的每个信号偏移量值;根据拟合获得的信号增益矩阵、信号偏移量矩阵以及线性方程组,计算获得每张图像的校正像素值。根据校正像素值对每张图像进行平场校正;该方法能够有效降低生产成本。
搜索关键词: 一种 基于 线性 拟合 图像 校正 方法 装置
【主权项】:
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