[发明专利]一种定点产生磁斯格明子的方法在审

专利信息
申请号: 202310173929.3 申请日: 2023-02-28
公开(公告)号: CN116234415A 公开(公告)日: 2023-06-06
发明(设计)人: 张军伟;徐琦;胡玥;姜泽;王楠;邓霞;朱柳;关超帅;彭勇 申请(专利权)人: 兰州大学
主分类号: H10N50/01 分类号: H10N50/01;H10N50/85
代理公司: 北京方圆嘉禾知识产权代理有限公司 11385 代理人: 吕永齐
地址: 730000 甘肃*** 国省代码: 甘肃;62
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摘要: 发明属于自旋电子技术领域,具体涉及一种定点产生磁斯格明子的方法。本发明通过聚光离子束增加磁性多层膜的无序度,降低垂直磁各向异性(PMA),并通过离子束辐照产生人工缺陷,使其Pt、Co、Ta相混合形成合金,从而改变Dzyaloshinskii‑Moriya(DM)相互作用,使磁性多层膜定点产生磁斯格明子。磁性多层膜的薄膜界面Pt、Co、Ta混合层数与离子束辐照剂量有关,本发明可以通过调节离子束辐照剂量来调整磁斯格明子的密度。该方法不仅可应用于基础研究,还可应用于自旋电子器件,如基于磁斯格明子的赛道存储器件中。
搜索关键词: 一种 定点 产生 磁斯格 明子 方法
【主权项】:
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