[发明专利]清洁组合物及其使用方法在审
| 申请号： | 202310178643.4 | 申请日： | 2016-07-14 |
| 公开（公告）号： | CN116218615A | 公开（公告）日： | 2023-06-06 |
| 发明（设计）人： | 杉岛泰雄;朴起永;T·多瑞 | 申请（专利权）人： | 富士胶片电子材料美国有限公司 |
| 主分类号： | C11D7/08 | 分类号： | C11D7/08;H01L21/02;C11D7/26;C11D7/32;C11D7/50;C11D7/60 |
| 代理公司： | 北京博思佳知识产权代理有限公司 11415 | 代理人： | 韩果 |
| 地址： | 美国罗*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本公开涉及主要用于在多步骤制造工艺中作为中间步骤的从半导体衬底去除残留物(例如，等离子体蚀刻残留物和/或等离子体灰化残留物)和/或金属氧化物的无腐蚀性清洁组合物。 | ||
| 搜索关键词： | 清洁 组合 及其 使用方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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