[发明专利]形成包含光致抗蚀剂底层的结构的方法在审
| 申请号： | 202310199250.1 | 申请日： | 2023-02-28 |
| 公开（公告）号： | CN116736637A | 公开（公告）日： | 2023-09-12 |
| 发明（设计）人： | F·冉;J·S·尼古拉斯 | 申请（专利权）人： | ASMIP私人控股有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/11 | 分类号： | G03F7/11;G03F7/16;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 焦玉恒 |
| 地址： | 荷兰阿*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 公开了形成包括光致抗蚀剂底层的结构的方法，所述光致抗蚀剂底层包括主体层和粘附层。示例性方法包括使用等离子体增强循环沉积过程形成主体层和形成粘附层。粘附层可以在用于形成主体层的同一反应室内形成。 | ||
| 搜索关键词： | 形成 包含 光致抗蚀剂 底层 结构 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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