[发明专利]变倍光学系统、光学设备以及变倍光学系统的制造方法在审
| 申请号： | 202310270770.7 | 申请日： | 2018-11-20 |
| 公开（公告）号： | CN116338917A | 公开（公告）日： | 2023-06-27 |
| 发明（设计）人： | 上原健 | 申请（专利权）人： | 株式会社尼康 |
| 主分类号： | G02B15/14 | 分类号： | G02B15/14;G02B15/15;G02B13/18 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人： | 季莹;方应星 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种变倍光学系统、光学设备以及变倍光学系统的制造方法。变倍光学系统(ZL)具备从物体侧依次排列的具有正的光焦度的第1透镜组(G1)、具有负的光焦度的第2透镜组(G2)、具有正的光焦度的第3透镜组(G3)以及后续透镜组(GR)，在进行变倍时，相邻的各透镜组之间的间隔变化，第1透镜组(G1)相对于像面固定，在从广角端状态向远焦端状态变倍时，第3透镜组(G3)向像侧移动，后续透镜组(GR)具有配置于最靠像侧的最终透镜组，且满足以下的条件式：‑10.00f3/(‑fE)3.50其中，f3：第3透镜组(G3)的焦距，fE：最终透镜组的焦距。 | ||
| 搜索关键词： | 光学系统 光学 设备 以及 制造 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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