[发明专利]一种降低碳化硅晶体应力的生长方法在审

专利信息
申请号: 202310277916.0 申请日: 2023-03-21
公开(公告)号: CN116334748A 公开(公告)日: 2023-06-27
发明(设计)人: 宋天粮 申请(专利权)人: 杭州乾晶半导体有限公司
主分类号: C30B23/00 分类号: C30B23/00;C30B29/36;C30B27/00
代理公司: 杭州裕阳联合专利代理有限公司 33289 代理人: 金方玮
地址: 310000 浙江省杭州市萧山*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开了一种降低碳化硅晶体应力的生长方法,使用硬质石墨和多孔石墨制作坩埚衬环,放置于籽晶与石墨坩埚之间,通过计算模拟调整硬质石墨和多种石墨的厚度、形状、结合形式,使得在晶体生长过程中,生长初期将硅气氛有效排出,减弱对碳化硅形核的负面影响,在保持等径或扩径生长的晶体外形的同时,也能够通过压缩多孔石墨的孔隙来达到释放热应力的效果,减少晶锭中裂痕和开裂情况的发生,降低微管,晶界和位错缺陷的密度,获得高品质的晶锭。
搜索关键词: 一种 降低 碳化硅 晶体 应力 生长 方法
【主权项】:
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