[发明专利]一种薄膜沉积装置及薄膜沉积方法在审
| 申请号： | 202310295674.8 | 申请日： | 2023-03-24 |
| 公开（公告）号： | CN116043325A | 公开（公告）日： | 2023-05-02 |
| 发明（设计）人： | 刘知琪;秦培鑫 | 申请（专利权）人： | 北京航空航天大学 |
| 主分类号： | C30B23/02 | 分类号： | C30B23/02;C30B33/04 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 张静 |
| 地址： | 100083*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本申请公开了一种薄膜沉积装置及薄膜沉积方法，该薄膜沉积装置包括沉积腔室和位于沉积腔室内相对设置的靶材托架、基片台，靶材托架用于承载沉积目标薄膜所需的靶材，基片台用于承载待沉积目标薄膜的基片，在靶材和基片之间施加预设电压后，使通入沉积腔室内的氩气被电离为等离子体，从而轰击靶材托架上的靶材，使靶材沉积到基片上形成目标薄膜；同时，在沉积腔室的侧壁上设置有电子枪，且电子枪的枪口指向基片台表面，并与基片台表面倾斜相对，用于在目标薄膜覆盖基片后，向基片上沉积的目标薄膜发射电子束，减少或消除目标薄膜中预设晶向的晶粒，使目标薄膜中晶向取向趋于一致，制备得到高质量的单晶薄膜。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 薄膜 沉积 装置 方法 | ||
【主权项】：
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