[发明专利]高压均质装置在审
| 申请号： | 202310315891.9 | 申请日： | 2023-03-16 |
| 公开（公告）号： | CN116920644A | 公开（公告）日： | 2023-10-24 |
| 发明（设计）人： | 胡方 | 申请（专利权）人： | 胡方 |
| 主分类号： | B01F25/20 | 分类号： | B01F25/20;B01F23/45;B01F33/71 |
| 代理公司： | 深圳市睿智专利事务所 44209 | 代理人： | 周慧玲 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市福*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 高压均质装置包括活塞式均质部件、均质缸体和进料部件；活塞式均质部件包括均质头部、均质尾部、均质物料排出通道，均质物料排出通道一端在均质尾部与外部连通，均质头部上包括射流通道，均质缸体内部包括均质头部容纳腔体；进料部件包括进料通道、高压进料连接口，进料通道与高压进料连接口连通。将射流通道设置在均质头部，均质头部与均质缸体的缝隙是剪切通道，射流通道是高压剪切均质通道，射流通道产生的高速射流在均质头部中的对撞完成了整个均质步骤。该装置工作压力范围广(10‑400MPa),单次均质效率高，用户可方便地调整均质手段来满足其物料均质的要求，这个装置制造简单，方便检修维护。 | ||
| 搜索关键词： | 高压 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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